Прелистување на по Автор Novkovski, N.
Прикажани резултати 3 до 3 на 3
< претходно
Преглед | Наслов | Автор(ите) | Датум на издавање | Тип |
---|---|---|---|---|
Reduction of Interface States Stress Generation by Oxygen Annealing of ALD Nanolaminated HfO2/Al2O3 Dielectric Stacks for Charge Trapping Devices | Skeparovski, A.; Novkovski, N.; Paskaleva, A.; Spassov, D. | 12-сеп-2021 | Proceeding article |